Sasaran titanium Planar tulen
Penerangan Produk
Sputtering adalah salah satu teknik utama untuk menyediakan bahan filem nipis.Ia menggunakan ion yang dihasilkan oleh sumber ion untuk mempercepatkan dan mengagregat dalam vakum untuk membentuk rasuk ion tenaga berkelajuan tinggi, membedil permukaan pepejal dan menukar tenaga kinetik antara ion dan atom permukaan pepejal.Atom pada permukaan pepejal meninggalkan pepejal dan dimendapkan pada permukaan substrat.Pepejal yang dibombardir adalah bahan mentah untuk menyediakan filem nipis yang didepositkan dengan kaedah sputtering, yang dipanggil sasaran sputtering.
Parameter Produk
| Nama produk | Bahan sasaran planar |
| bentuk | Sasaran segi empat sama, Sasaran Bulat |
| Saiz jualan panas | Sasaran batang Φ100*40mm, Φ95*40mm,Φ98*45mm,Φ80*35mm |
| Sasaran persegi 3mm, 5mm, 8mm, 12mm | |
| MOQ | 3 keping |
| bahan | Ti, Cr, Zr, W, Mo, Ta, Ni |
| Proses pengeluaran | Kaedah tuangan cair, kaedah metalurgi serbuk |
Nota: Kami boleh menghasilkan dan memproses pelbagai sasaran logam, dan boleh menyesuaikan pelbagai spesifikasi.Sila rujuk kami untuk butiran.
Permohonan
Salutan sputtering magnetron adalah jenis kaedah salutan wap fizikal baharu.Berbanding dengan kaedah salutan penyejatan, ia mempunyai kelebihan yang jelas dalam banyak aspek.Sasaran percikan logam telah digunakan dalam banyak bidang. Aplikasi utama sasaran rata.
● Industri hiasan
● Kaca seni bina
● Kaca automatik
● Kaca rendah-E
● Paparan panel rata
● Industri optik
● Industri penyimpanan data optik, dsb
Maklumat Pesanan
Pertanyaan dan pesanan hendaklah mengandungi maklumat berikut:
● Bahan sasaran.
● Bentuk bahan sasaran, mengikut bentuk, menyediakan spesifikasi atau menyediakan sampel dan lukisan.
● Sila berikan spesifikasi benang untuk sasaran yang memerlukan sambungan berulir, seperti: M90*2 (diameter utama benang * pic benang).
Sila hubungi kami untuk keperluan khas lain.
